二甲基甲酰胺中铥(Ⅲ)在铜电极上的电化学行为

摘要

应用循环伏安法、单电位阶跃计时电流法、计时电量法研究了二甲基甲酰胺(DMF)中铥(Ⅲ)在Cu电极上的电化学性质.研究表明,铥(Ⅲ)在Cu电极上的还原是不可逆过程.通过上述3种电化学方法得到的扩散系数(D0)相近,由循环伏安法测得的传递系数(α)为0.028 36,通过塔菲尔曲线求得的交换电流密度(i0)为1.352 6×10-6 A/cm2.铥(Ⅲ)离子成核机理研究表明,铥在Cu电极上的电沉积按三维模式生长连续成核.