集成电路曝光文件自动编辑系统设计与实现

摘要

本文简要介绍了用于集成电路(IC)光刻工艺的曝光文件及其重要功用,并针对手工编辑曝光文件“效率低、易出错”的问题,设计并搭建了一种可以实现曝光文件自动编辑的软硬件系统,显著提升了曝光文件的编辑速度,同时也大幅降低了出错率。到目前为止,该自动编辑系统已得到了大量的实际应用,取得了良好的效果。