溅射时间对氧化钒薄膜性能的影响

摘要

采用直流磁控溅射法在普通玻璃上制备了氧化钒薄膜,并对薄膜采取了450℃真空退火处理,分别测量了退火前后薄膜XRD图谱及电阻,比较了不同溅射时间(120min、100min、60min)对薄膜性能的影响。结果表明,溅射时间增长,薄膜的结晶度也增强,经过退火处理,薄膜的电阻明显减小,且溅射时间越长,薄膜的阻值越小,3块薄膜的电阻分别达到16.0MΩ、65.0MΩ、71.5MΩ,其随温度变化的幅度也越小。