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李强; 杨瑞霞; 潘国峰; 王如; 魏伟;
河北工业大学信息工程学院;
碳化硅薄膜; 双靶共溅射; 工作压强; 退火; 表面形貌;
机译:退火温度对Ni-P和Ni-P / SiC薄膜的微观结构,表面粗糙度,力学和摩擦学性能的影响
机译:真空退火温度对a-SiC:H薄膜基本吸收边和结构弛豫的影响
机译:退火温度对SiC / AIN双层薄膜结构和光致发光的影响
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:TiO2薄膜涂层的快速可扩展线棒策略:退火后温度对结构和催化染料降解的影响
机译:热退火对DC磁控溅射沉积的A-SiC薄膜的光学和结构性能的影响
机译:CmR薄膜的微观结构研究作为沉积和退火的生长温度的函数
机译:薄膜的变化温度退火和由此形成的结构
机译:薄膜和由此形成的结构的可变温度退火
机译:薄膜在不同温度下的退火及其所形成的结构
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