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摘要

＜正＞1979年5月30日至6月1日,在美国真空协会和IEEE电子器件组的支持下,在波斯顿召开了第15届电子束、离子束和光束工程学讨论会,约有400人参加.会议的主要内容是离子束刻蚀以及用各种方法力求达到100埃的微加工极限.关于电子束曝光和X射线曝光两年来也取得了很大进展,发表了很多研究论文.

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    《压电与声光》 |1979年第6期|64-65|共2页
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