溅射成膜技术新动向

摘要

＜正＞浅射现象是Crove在1842年发现的.从1870年开始已经知道浅射能够用来制成膜,但是作为工业技术上的实际应用是1930年以后的事.本校的齐藤幸男名誉教授从1920年起就把这种技术称为“阴极飞浅法”.用它试制了各种金属膜,并对其性能进行了研究.虽然这种浅射法具有比真空蒸发法更久的历史,但是由于成膜速率低和使基片表面过热现象而限制了其用途.另一方面,真空蒸发法由于新型的蒸发源和高性能的真空排气系统的发展,已广泛