砷化镓的稳态液相外延生长

摘要

为了生长厚的、掺杂均匀的外延层,研究了稳态液相外延生长法。本文阐述了生长不均匀问题的结果。为了得到良好的热均匀性,采用了圆柱形对称的垂直外延系统。所观察到的生长速率同温度梯度、生长温度和衬底相对于溶液位置的影响有关。当衬底放在溶液的顶部时,认为外延层厚度不均匀的主要原因是对流,而不是组份过冷、热不均匀性或者扩散。观察到生长速率比由扩散理论预计的大二个量级。当衬底放在溶液的底部时,观察到了扩散限制生长。厚度的变化由边缘效应控制。