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浅野雅文; 欧福贤;
机译:极紫外光刻中的随机:研究基于金属氧化物的抗蚀剂的微观抗蚀剂性能的作用
机译:检测光刻涂布工具的抗蚀剂线中的空抗蚀剂瓶或空气
机译:新型电子束光刻抗蚀剂SML的表征及其与PMMA和ZEP抗蚀剂的比较
机译:使用单次或多种开发步骤的电子束光刻抗蚀剂抗蚀剂抗蚀剂抗蚀剂的过程优化,使用氢氧化钠或金属离子防渗
机译:深紫外光致抗蚀剂技术中的问题:用于248和213 nm光刻的本体和表面成像抗蚀剂的表征和建模。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:特别问题/最近微光刻表的光致抗蚀剂的趋势和未来。多层抗蚀剂的近期趋势和未来对微光术进行抗蚀剂。
机译:扫描探针光刻。 1.扫描隧道显微镜诱导的自组装正烷硫醇单层抗蚀剂的光刻。
机译:成膜材料,用于光刻的成膜组合物,光学部件形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感性组合物,非晶膜的制造方法,用于光刻的下层膜形成材料,用于光刻的下层成膜组合物,用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法
机译:化合物,其制造方法,组成,光学部件形成用组合物,光刻用膜形成用组合物,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,放射线敏感性组合物,非晶膜的制造方法,光刻用下层,成膜材料,形成用组合物用于光刻的底层膜,用于光刻的底层膜的制造方法,抗蚀剂图案形成方法,电路图案形成方法和纯化方法
机译:用于形成膜的组合物,抗蚀剂组合物,辐射敏感组合物,无定形膜制造方法,抗蚀剂图案形成方法,用于光刻,电路图案形成方法和用于光刻薄膜的底层薄膜的制造方法,用于形成光学构件的组合物, 用于形成膜,抗蚀剂树脂,辐射敏感树脂的树脂和用于形成光刻底层薄膜的树脂
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