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用RF平面磁控溅射高度c轴取向ZnO压电薄膜

         

摘要

c轴取向ZnO薄膜是一种性能优良的新型压电薄膜材料,广泛用于声体波、声表面波和声光器件中.本文概述了ZnO薄膜的性能、用途和成膜方法.介绍了用本所设计改装的RF平面磁控溅射设备研制c轴取向ZnO薄膜的性能及在ZnO薄膜SAW电视中频滤波器、微波延迟线等器件上使用的结果.这种薄膜结晶取向好,C轴标准偏离б=1.5—3°,平均偏离m=0.1—0.8°,有强的压电性,Ks=0.75—0.89%,K1=0.23—0.28.而且重复性、稳定性好.

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  • 来源
    《压电与声光》 |1985年第6期|20-29|共10页
  • 作者单位

    四川压电与声光技术研究所;

    四川压电与声光技术研究所;

    四川压电与声光技术研究所;

    四川压电与声光技术研究所;

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