聚二甲基硅氧烷涂层自修复过程中的弛豫时间分布研究

摘要

针对传统电化学分析技术不能完全反映有机涂层腐蚀电化学过程的问题，采用弛豫时间分布（DRT）技术分析电化学阻抗谱（EIS），研究了聚二甲基硅氧烷（PDMS）涂层在长效防腐过程及“人工划伤-自修复”循环过程中的动态弛豫时间分布。结果表明：结合等效电路模型分析方法，DRT技术能够清晰地分析PDMS涂层电化学过程中总电化学阻抗的组成及各部分贡献率，并从理论方面阐明了EIS等效电路中各元件对应的弛豫时间归属问题。为腐蚀电化学机理研究提供了一种新的分析技术。