X射线衍射里特沃尔德全谱图拟合法与焦磷酸法测定锡冶炼粉尘中游离二氧化硅水平比较

摘要

目的探讨X射线衍射里特沃尔德(Rietveld)全谱图拟合法和焦磷酸法测定锡冶炼粉尘中游离二氧化硅(SiO2)水平的差异。方法应用X射线衍射Rietveld全谱图拟合法和焦磷酸法测定同一锡冶炼粉尘中游离SiO2水平,采用配对t检验对2种方法的检测结果进行比较分析。结果焦磷酸法的重现性测定相对标准偏差大于X射线衍射Rietveld全谱图拟合法;焦磷酸法测得的粉尘中游离SiO2水平高于X射线衍射Rietveld全谱图拟合法的测定结果(P<0.05)。结论焦磷酸法在测定含有较多难溶物质的锡冶炼粉尘中的游离SiO2时,可能会导致结果产生较大偏差,应辅以全谱图拟合法进行分析。