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刘志杰; 张卫; 万永中; 王季陶;
复旦大学电子工程系CVD研究室;
卤素; 化学气相淀积; 金刚石; 薄膜; 非平衡热力学;
机译:直流电弧等离子体喷射化学汽相淀积法制备高质量金刚石薄膜
机译:氢原子密度和能量在金刚石薄膜低功率化学气相沉积合成中的作用
机译:第三代薄雾化学汽相淀积制备导电锑掺杂氧化锡薄膜(SnO_x:Sb)的研究
机译:超大规模集成电路互连金属化的化学气相淀积层与化学沉积方法的比较
机译:大气压非平衡等离子体化学处理金刚石薄膜的等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)的实验研究
机译:通过原子层沉积和化学气相沉积在高纵横比结构中沉积的薄膜的ToF-SIMS 3D分析
机译:微波测量CH_4 / H_2 / N_2等离子体增强化学气相沉积过程中氮掺杂金刚石薄膜的椭偏研究
机译:金刚石薄膜化学气相沉积的热力学和高温化学。
机译:低温多晶硅薄膜的元件及其在低温下直接淀积的多晶硅薄膜的方法及其感应耦合等离子体化学气相淀积设备
机译:低温多晶硅薄膜的组成及其在低温下的直接淀积和电感耦合等离子体化学气相沉积设备制造多晶硅薄膜的方法
机译:钌膜的化学气相沉积化学汽相淀积及其应用
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