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进一步提高我国分子束外延技术的探讨

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进一步提高我国分子束外延技术的探讨孔梅影，梁基本，曾一平（中国科学院半导体研究所北京１０００８３）十多年来，我国的分子束外延（ＭＢＥ）技术从无到有，并不断改进提高，取得很大的进展。在中国科学院一些单位的共同努力下，我国先后发展了Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ四种型号...

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来源
《高技术通讯》 |1994年第1期|39-41|共3页
作者
孔梅影; 梁基本;
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作者单位

不详;

不详;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类 TN304.054;
关键词
分子束外延; 中国; 半导体材料;

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