波导材料二氧化硅厚膜的快速生长

摘要

采用火焰水解法(FHD)在Si片(4.5cm)上快速淀积疏松多孔的SiO2厚膜材料,淀积速率达8μm/min.然后将该材料分别在真空/空气气氛中高温致密化处理,获得了各种形态的二氧化硅厚膜.其中包括平整度好、光滑透明的玻璃态SiO2厚膜,该膜厚度达到40μm以上,完全适合制作平面光波导器件.最后,利用XRD、SEM、光学显微镜等仪器对SiO2膜的表面和膜厚进行了测试分析,并讨论了影响致密化SiO2厚膜结构的各种因素.