纳米SiO2粉体的制备与研究

摘要

纳米SiO2粉体的制备是以硅酸钠和盐酸为原料,添加适宜的稳定剂(非离子表面活性剂)和分散剂,在适宜的pH值和温度下,采用化学沉淀法合成.研究表明,要得到性能优良纳米的SiO2粉体,最佳工艺条件为:温度20～40 ℃,pH=6,反应液质量浓度P1=20 g/L,P2=1.20 g/L,反应时间15 min.结果表明:制备的纳米SiO2粒径30～50 nm,比表面积大,分散性好,质量优良,可达到产业化的生产.