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刘馨泽; 匡尚奇; 刁金玉; 林景全;
长春理工大学理学院 吉林 长春;
光学系统设计; 等效工作面; 极紫外; 多层膜;
机译:用极紫外显微镜观察极紫外光刻掩模上残留型薄吸收体缺陷
机译:使用极紫外显微镜评估多层相缺陷上的极紫外光刻掩模吸收体图案
机译:协方差矩阵自适应演化策略优化极紫外光刻掩模的缺陷补偿
机译:极紫外光刻技术对掩模缺陷的图案依赖性
机译:用于自然缺陷分析的极紫外光刻掩模版的局部掩模图案
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:在极紫外光刻中表征和减轻3D掩模效应
机译:极紫外光刻掩模上基板和吸收体缺陷的可印刷性
机译:极紫外光刻掩模的缺陷检测系统
机译:用于半导体工业的光刻掩模光学分析方法,涉及基于共焦和暗场照明期间已定义缺陷的图像的比较,对掩模上的缺陷进行分类
机译:具有蚀刻停止层的光掩模结构,其能够修复其中检测到的缺陷以及使用该光掩模结构的极紫外(EUV)光刻方法
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