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董婉; 徐海文; 戴忠玲; 宋远红; 王友年;
大连理工大学物理学院 三束材料改性教育部重点实验室 大连 116024;
电非对称效应; 离子和中性基团的协同作用; 电极间距; 放电模式;
机译:Ar / CF4和Ar / O2 / CF4放电的双频电容耦合等离子体中电子密度和离子能量分布的实验研究
机译:60 MHz / 2 MHz双频放电的C2F6 / O2 / Ar等离子体化学性质及其对SiCOH低k膜刻蚀的影响%60MHz / 2 MHz双频放电的C2F6 / O2 / Ar等离子体化学性质及其对SiCOH低k膜的蚀刻
机译:Ar / CF4脉冲双频感应耦合放电中的离子能量分布和占空比的影响
机译:非对称双频反应堆中Ar / CF_4 / N_2放电的数值研究
机译:电感耦合等离子体刻蚀反应器中离子流和硅刻蚀速率的二维均匀性
机译:微电极对听觉系统神经元放电模式的影响
机译:控制电子能量分布和等离子体特性的双频,脉冲电容耦合等离子体持续,AR和AR / CF4 / O2
机译:用氩(ar),四氟化碳(CF4)和六氟化硫(sF6)混合物反应离子刻蚀钛酸锶钡薄膜的研究
机译:利用含HF或CF4的附着剂,在不影响金属膜去除工艺对栅极电极的情况下,制造具有晶体活性层的TFT的方法
机译:形成元素和结构的周期性浓度的阻隔层的方法,从而重新形成电极和结构,并影响在电子电镀过程中影响整个微电子层析成像的溶液剖面的系统和方法
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