发光多孔硅的表面氮钝化

摘要

报道对多孔硅在ＮＨ３气中进行快速热处理的结果。红外吸收谱表明，经处理样品的表面由Ｓｉ（ＮＨ）２和Ｓｉ３Ｎ４所覆盖。电子自旋共振谱指出，经处理的样品有相当低的悬挂键密度。光荧光谱表明，经适当条件处理的样品的发光强度与未作处理样品相比仅略有降低，而且在大气中存放三个月基本不变。这些结果表明，氮化物可以在多孔硅表面形成优良的钝化膜，这对多孔硅的实际应用及理论研究都有一定意义。