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何丽静; 林晓娉; 王铁宝; 刘春阳;
河北工业大学材料科学与工程学院,天津,300130;
离子束沉积; 纳米薄膜; X射线光电子能谱; X射线衍射;
机译:电泳沉积(EPD)单晶SR2NB3O10介电纳米薄膜介质纳米薄膜的介电性能及后沉积处理
机译:光照对单晶硅表面钝化的影响,该单晶硅表面被沉积有等离子体增强化学气相沉积SiN_x的原子层沉积Al_2O_3钝化
机译:Si衬底的表面处理对离子束溅射沉积形成的FeSi_2薄膜晶体结构的影响
机译:离子束溅射沉积Al2O3纳米薄膜的表面质量研究。
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:电致变色V2O5纳米薄膜的电化学沉积和着色机理:原位X射线光谱研究
机译:拓扑绝缘体Bi1.5sb0.5Te1.8se1.2单晶纳米薄膜器件表面主导传输的适应症
机译:离子束溅射沉积高(Tc)超导薄膜的离子散射和溅射工艺研究:沉积参数的优化。
机译:表面改性单晶SiC衬底,具有外延生长层的单晶SiC衬底,半导体芯片,用于物种衬底的单晶SiC生长和单晶生长层多晶SiC衬底的制造方法
机译:制造表面改性的单晶SiC基质,具有表观生长层的单晶SiC基质,半导体芯片,用于单晶SiC增长的种子基质以及多晶硅SiC基质的制造方法
机译:单晶SiC衬底的表面加工方法,其制造方法以及用于单晶SiC衬底的表面加工的研磨板
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