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掺AlZnO纳米线阵列的光致发光特性研究

         

摘要

采用化学气相沉积方法,以金做催化剂,在Si (100)衬底上制备了掺AlZnO纳米线阵列.扫描电子显微镜(SEM)表征发现ZnO纳米线的直径在30 nm左右.X射线衍射(XRD)图谱上只存在ZnO的(002)衍射峰,说明ZnO纳米线沿c轴择优取向.掺AlZnO纳米线阵列的室温光致发光(PL)谱中出现了3个带边激子发射峰:373 nm,375 nm,389 nm.运用激子理论推算出掺AlZnO纳米线的禁带宽度为3.343 eV ,束缚激子结合能为0.156 eV;纯ZnO纳米线阵列PL谱中3个带边激子发射峰为377 nm,379 nm,389 nm.其禁带宽度为3.301 eV ,束缚激子结合能为0.113 eV.通过比较发现掺Al增大了ZnO纳米线的禁带宽度.

著录项

  • 来源
    《物理学报》 |2007年第9期|5176-5179|共4页
  • 作者单位

    西南石油大学理学院,成都,610500;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    西南石油大学理学院,成都,610500;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 物理学;
  • 关键词

    光致发光; 化学气相沉积(CVD); 激子; ZnO纳米线阵列;

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