增益导波垂直腔激光器注入电流空间分布及其对激光近场模式影响的理论分析和表征

摘要

依据导电介质的稳态电场理论建立了一种对增益导波型垂直腔半导体激光器注入电流矢量分析的三维解析模型.计算研究了电流密度空间分布及其与顶面电注入环参量之间的相互关联性.结果显示在两极之间存在一个载流子径向分布中心极大的区域.由于激光功率与注入电流之间存在线性关系,因此,要使器件能够获得基模或中心均匀的光强输出以及尽可能低的阈值,应使激光有源层与载流子均匀分布的临界层重合.计算结果对顶发射与底发射结构以及不同环参数下的载流子分布情况及对近场模式形成的影响进行了分析和讨论.