University of California Berkeley;
机译:通过使用严格的三维晶片形貌和光刻模拟,考虑局部反射率变化的双重图案的分割,重叠,缝合和工艺设计
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机译:利用温度和偏置相关的小信号FET模型设计用于补偿温度依赖性和低噪声放大器的工艺变化的栅极偏置电路
机译:低k_1 193 nm光刻的雾度检测和雾度引起的工艺纬度变化
机译:光学光刻技术引起的系统变化的设计方法
机译:系统的生物启发设计过程:具有多模式运动能力的可重构机器人的概念设计和物理原型。
机译:具有变分光刻建模的工艺变化感知OpC
机译:闪光X射线(FXR)加速器优化注入器电压变化补偿通过光束引起的间隙电压。