机译:使用低相干干涉法同时原位测量二氧化硅等离子体刻蚀过程中的硅衬底温度和二氧化硅膜厚度
机译:俄歇电子能谱法表征硅和钼衬底上氮化硅薄膜的特性和深度分布
机译:通过沉积120 eV碳和硅离子在纳米晶碳化硅膜生长期间衬底表面的温度行为
机译:超临界二氧化碳流体合成硅衬底上的氧化物薄膜
机译:光学干涉测量法在硅基板上的二氧化硅膜中的平面内残余应力。
机译:单结GaAs太阳能电池上溅射的二氧化硅氧化铟锡和二氧化硅/氧化铟锡抗反射涂层的电学和光学特性
机译:光学测量硅基板上的二氧化硅膜和磁盘上的碳涂层的表面轮廓。
机译:硅上薄二氧化硅薄膜的测量与建模