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吕起鹏;
大连理工大学;
离子束溅射沉积; Ta2O5; SiO2; 光学薄膜; 应力特性; 形变;
机译:用有限元分析模拟离子束溅射Ta2O5 / SiO2多层涂层的热应力
机译:Ta2O5 / SiO2混合离子束溅射涂层的残余应力和激光损伤
机译:离子束溅射沉积法在SI(100)上SIO2 / TA2O5多层膜的结构性质
机译:等离子体离子辅助沉积SiO2 / Ta2O5多层UV窄带滤波器机械应力与光学性能的相关性
机译:基于光学UVC锰的光学UVC光学光导的加工和应用SiO2光导=光学UVC气体传感器技术的SiO2基于SiO2的波导
机译:薄膜应力工程技术可在SiO2上直接制造石墨烯
机译:用双离子束溅射沉积的Ta2O5膜中残余应力的退火
机译:热历史对热生长二氧化硅,siO2超薄膜应力相关特性的影响
机译:测量具有快速响应特性的纳米金属薄膜应力变化的自动装置和方法
机译:用于显示的化学气相沉积薄膜应力控制方法
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