铜表面上希夫碱自组装膜的电化学性能研究

摘要

该论文的研究目的在于用自组装技术制备对铜具有良好缓蚀作用的功能有序膜,并研究自组装膜形成机理以及影响自组膜的质量和性能的因素,为选择合适的自组装膜体系、组装条件以及成膜分子的设计和合成提供理论依据.1、研究体系的选择;该论文利用过渡金属与含有孤对电子的希夫碱类缓蚀剂分子之间配位作用,在金属铜表面组装功能有序分子膜.2、希夫碱在铜表面的自组装膜的制备及其表征;3、希夫碱自组装膜性质及其影响因素;4、希夫碱自组状膜的量子化学研究.

目录

摘要

ABSTRACT

第一章 绪论

§1.1有序分子膜组装技术

§1.2化学修饰电极的发展

§1.3分子自组装的研究进展

§1.4本论文的总体思路

参考文献

第二章 研究方法

§2.1电极与溶液

§2.2仪器和方法

参考文献

第三章 希夫碱自组装膜的表征及其成膜机理研究

§3.1引言

§3.2希夫碱自组装单层膜的形成

§3.3希夫碱自组装膜的形貌

§3.4自组装膜的成分分析

§3.5希夫碱以及硫醇的自组装机理的研究

§3.6小结

参考文献

第四章 自组装膜性能及其影响因素的电化学研究

§4.1引言

§4.2希夫碱自组装膜的电化学表征

§4.3影响希夫碱自组装膜质量及其性能的因素

§4.4小结

参考文献

第五章 希夫碱在铜表面吸附的量子化学研究

§5.1引言

§5.2希夫碱铜配位化合物结构的分子力学优化

§5.3希夫碱自组装的量子化学研究

参考文献

结束语

致谢

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