声明
摘要
符号表
§1．1概述
§1．2 TiO2材料的性质与应用
1．2．2 TiO2材料的应用
§1．3 TiO2外延薄膜及应用研究现状
1．3．2 TiO2基紫外光电探测器的研究现状
1．3．3 TiO2基薄膜晶体管的研究现状
§1．4课题的选取及论文主要内容
参考文献
第二章实验设备及测试方法
2．1．1 MOCVD沉积薄膜基本原理
2．1．2本论文使用的MOCVD系统
§2．2 TiO2基器件的制备
2．2．1原子层沉积设备
2．2．2电子束蒸发镀膜仪
2．2．3光刻和剥离工艺
2．2．4器件隔离工艺
§2．3 TiO2薄膜材料及器件测试方法
2．3．1薄膜结构和化学组分测试
2．3．2薄膜表面形貌测试
2．3．3薄膜光学和电学性质测试
2．3．4紫外光电探测器光谱响应和时间响应测试
2．3．5薄膜晶体管电学性能测试
参考文献
第三章本征锐钛矿TiO2薄膜的制备及性质研究
3．1．1生长温度对TiO2薄膜结构的影响
3．1．2 TiO2薄膜的组分分析
3．1．3 TiO2薄膜的微观结构和外延关系
3．1．4 TiO2薄膜的光学性质
§3．2 SrTiO3衬底上本征锐钛矿TiO2薄膜的制备及其性质研究
3．2．1衬底晶面的选取和薄膜制备条件
3．2．2生长温度对TiO2薄膜结构和表面形貌的影响
3．2．3 TiO2薄膜的外延关系及微观结构
3．2．4 TiO2薄膜的光学透过率
§3．3 MgAl6O10衬底上本征锐钛矿TiO2薄膜的制备及其性质研究
3．3．1衬底温度对TiO2薄膜结晶结构类型的影响
3．3．2衬底温度对TiO2薄膜表面形貌的影响
3．3．3 TiO2薄膜的微观结构及外延关系
3．3．4 TiO2薄膜的光学性质
参考文献
第四章掺杂锐钛矿TiO2薄膜的制备及性质研究
4．1．1掺In TiO2薄膜的组分分析
4．1．2 In掺杂浓度对TiO2薄膜晶体结构的影响
4．1．3掺In TiO2薄膜的表面形貌
4．1．4掺In TiO2薄膜的光学透过率和电学性质
§4．2 SrTiO3衬底Nb掺杂锐钛矿TiO2薄膜的制备及其性质研究
4．2．1掺Nb TiO2薄膜的组分分析
4．2．2掺Nb TiO2薄膜的晶体结构
4．2．3掺Nb TiO2薄膜的表面形貌和界面外延关系
4．2．4掺Nb TiO2薄膜的电学性质和光学性质
§4．3 SrTiO3衬底Ta掺杂锐钛矿TiO2薄膜的制备及其性质研究
4．3．1掺Ta TiO2薄膜的组分分析
4．3．2掺Ta TiO2薄膜的晶体结构
4．3．3掺Ta TiO2薄膜的表面形貌和界面微结构
4．3．4掺Ta TiO2薄膜的电学性质和光学性质
§4．4 MgAl6O10衬底Ta掺杂锐钛矿TiO2薄膜的制备及其性质研究
4．4．1掺Ta TiO2薄膜的组分和晶体结构分析
4．4．2掺Ta TiO2薄膜的表面形貌
4．4．3掺Ta TiO2薄膜的电学和光学性质
参考文献
第五章基于Ta掺杂锐钛矿TiO2薄膜的器件研究
5．1．1金属-半导体-金属型紫外光电探测器的原理和制备
5．1．2紫外光电探测器的光谱响应
5．1．3紫外光电探测器的时间响应
§5．2基于Ta掺杂锐钛矿TiO2的薄膜晶体管
5．2．1薄膜晶体管的工作原理和主要参数
5．2．2 Ta掺杂TiO2薄膜晶体管的制备
5．2．3薄膜晶体管的性能研究
参考文献
第六章结论
博士期间发表论文目录
致谢
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