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【6h】

脉冲激光沉积法制备氧化亚铜薄膜的性质调控

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摘要

1.1引言

1.2 Cu2O薄膜的性质与应用

1.2.1 Cu2O的应用

1.3 Cu2O薄膜的研究进展

1.4本文主要内容

2.1.1脉冲激光沉积

2.1.2等离子体处理设备

2.1.3退火设备

2.2薄膜测试方法

2.2.1 X射线衍射(XRD)测试方法

2.2.2拉曼光谱(Raman Spectra)测试方法

2.2.3原子力显微镜(AFM)测试

2.2.5光学性质测试

2.2.6电学性质测试

第三章氮等离子体处理对Cu2O薄膜性质的影响

3.2氮等离子体处理对Cu2O薄膜物相、结构和形貌的影响

3.3氮等离子体处理对Cu2O薄膜成分的影响

3.4氮等离子体处理对Cu2O薄膜光学性质的影响

3.5氮等离子体处理对Cu2O薄膜电学性质的影响

3.6本章小结

第四章真空退火处理对Cu2O薄膜性质的影响

4.2真空退火处理对Cu2O薄膜结构和形貌的影响

4.3真空退火处理对Cu2O薄膜成分的影响

4.4真空退火处理对Cu2O薄膜光学性质的影响

4.5真空退火处理对Cu2O薄膜电学性能的影响

4.6本章小结

第五章Zn掺杂对Cu2O薄膜性质的影响

5.2 Zn掺杂对Cu2O薄膜物相和成分的影响

5.3 Zn掺杂对Cu2O薄膜光学性质的影响

5.4 Zn掺杂对Cu2O薄膜电学性能的影响

5.5本章小结

第六章总结与展望

参考文献

致谢

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