第一章 绪论
1.1 研究目的及意义
1.2 课题研究背景
1.3 ITRS与IRDS
1.3.1 极紫外光刻(EUV)
1.3.2 纳米压印(NIL)
1.3.3 无掩模光刻(MLL)
1.3.4 IRDS新的发展趋势
1.4 传统嵌段共聚物与新型嵌段共聚物从自组装到定向自组装
1.4.1 技术指导原理
1.4.2 嵌段共聚物发展历史
1.4.3 未来发展趋势
1.5 论文主要研究工作与内容
1.5.1 原嵌段共聚物材料(PS-b-PMMA)分相基础研究
1.5.2 新型嵌段共聚物材料(PS-b-PC)分相研究
1.5.3 “场”条件下的新型嵌段共聚物材料(PS-b-PC)分相研究
1.6 论文章节安排
第二章 新型嵌段共聚物(PS-b-PC)自组装结构分相特性的研究
2.1 引言
2.1.1 新型嵌段共聚物(PS-b-PC)的制备
2.1.2 嵌段共聚物微相分离原理
2.1.3 垂直分相结构与无需中性层
2.1.4 研究情况与相关问题
2.2 实验及其研究
2.2.1 样品结构及材料
2.2.2 实验工艺流程
2.2.3 单步及多步工艺研究策略
2.3 实验及其研究结果与讨论
2.3.1 衬底处理方式及影响效果
2.3.2 嵌段共聚物膜厚影响效果
2.3.3 退火温度与时间影响效果
2.4 本章小结
第三章 新型嵌段共聚物(PS-b-PC)定向特性研究
3.1 引言
3.1.1 定向自组装版图设计
3.1.2 定向诱导原理
3.1.3 不同研究方案对比与优化选择
3.1.4 当前研究现状与问题
3.2 实验内容
3.2.1 实验工艺流程
3.2.2 定向自组装工艺研发
3.3 结果与讨论
3.4 本章小结
第四章 新型嵌段共聚物(PS-b-PC)的图形转移
4.1 引言
4.1.1 图形转移
4.1.2(PS/PC)选择性刻蚀
4.1.3 研究现状与问题
4.2 实验研究内容
4.2.1 直接刻蚀图形转移
4.2.2 ALD+Hard Mask辅助图形转移
4.3 实验结果与讨论
4.3.1 直接刻蚀图形转移实验结果与讨论
4.3.2 ALD+HardMask辅助图形图形转移实验结果与讨论
4.4 本章小结
第五章“场”作用下新型嵌段共聚物的自组装研究
5.1引言
5.2电场作用下的结果与讨论
5.2.1样品制备与实验装置
5.2.2电场作用下嵌段共聚物(PS-b-PC)自组装行为研究
5.3 磁场作用下的结果与讨论
5.3.1样品制备与实验装置
5.3.2磁场作用下嵌段共聚物的自组装行为研究
5.4本章小结
第六章总结及展望
6.1论文主要工作总结
6.2论文研究成果与创新点
6.3研究展望以及后续研究工作
参考文献
致谢
附录
附录A 硕士期间发表学术论文与取得成果
附录B 硕士期间参加科研项目
声明