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目录
第一章 研究背景
1.1 研究意义
1.2 国内外研究动态
1.3 本论文研究内容
第二章 理论基础
2.1 氢同位素在钨中的沉积过程
2.2 辐照损伤
2.3 离子与物质相互作用
2.4 D-D核反应截面与产额
第三章 实验设备与方法
3.1 样品准备
3.2 氘浓度分析方法
3.3 氘离子注入及动态氘浓度分析实验
3.4 静态氘浓度分析实验
3.5 质子注入实验
3.6 样品表征方法及设备
第四章 结果分析与讨论
4.1 氘注入钨中的实验结果与分析
4.2 质子注入钨中的实验结果与分析
4.3 氢离子辐照损伤及沉积行为分析
第五章 总结与展望
5.1 实验总结
5.2 工作展望
参考文献
在学期间研究成果
致谢