Groupe d'Etudes des Semiconducteurs, CC074, Universite Montpellier II, 34095 Montpellier Cedex 5, France;
机译:高反射率GaN / AlGaN分布式布拉格反射器的MOCVD生长
机译:使用无裂纹的高反射率AlN / GaN和Ta_2O_5 / SiO_2分布的布拉格反射镜的混合氮化物微腔
机译:使用高反射率的AlIn / GaN Bragg反射镜的无裂纹全外延氮化物微腔
机译:高反射率AlGaN / GaN Bragg镜子由MOCVD种植的Microcavities应用
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:以AlN / GaN超晶格为阻挡层的MOCVD法生长GaN HEMT中的2-DEG特性
机译:具有通过MOCVD生长的AlN中间层的AlGaN / GaN / InGaN / GaN DH-HEMTs结构
机译:用于UV光电探测器应用的GaN,alN和alGaN的mOCVD生长。