Hitachi, Ltd., 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama 244-0817 Japan;
CD-SEM; model-based library; focused electron beam model; electron incident angle; measurement error;
机译:一种使用电子门禁成像从传输测量值重建入射光束分布的迭代算法。
机译:2.0 GeV电子在厚靶上产生的光中子产量的角分布测量
机译:基于范艾伦探针测量的辐射带电子桨距角分布的经验模型
机译:电子事件角度分布对CD-SEM线宽测量的影响
机译:用CLAS测量氦3(电子,电子质子质子)中子的相关对动量分布。
机译:从俯仰角度分布测量确定等离子体电子的块状参数
机译:碳,铝,聚乙烯和聚苯乙烯的深度剂量分布测量10 MeV入射电子
机译:入射离子能量对Rh(111)的二次Rh(+)离子动能和方位角分布的影响。 (重新公布新的可用性信息)