首页> 外文会议>日本金属学会春期大会 >P-DC マグネトロンスパッタ法により成膜した CrNX 膜の機械的性質と微細構造
【24h】

P-DC マグネトロンスパッタ法により成膜した CrNX 膜の機械的性質と微細構造

机译:P-DC磁控溅射法沉积CRNX薄膜的力学性能和微观结构

获取原文

摘要

CrN膜は機械部品の保護膜として幅広い分野で使用されてきた.多くの研究報告が見られるが,300°C以上の高い基板温度で作製した膜についての報告は少ない.他方で,CrNにAl,Si等を複合化させた3元系膜もすでに実用化されているが,これらは高温で成膜されることが多く,3元系と2元系をつなぐ系統的なデータが十分であるとは言えない.そこで本研究ではCrN膜の成膜時の基板温度を350°Cに固定し,その他の成膜条件がCrN膜の機械的性質と微細構造に及ぼす影響を調査した.
机译:CRN膜已被用于各种机器部件的保护膜。 已经看到许多研究报告,但是很少有关于在高于300℃的高基板温度下产生的膜的报道。 另一方面,尽管在其中的三元膜与Al,Si等结合Al,Si等已经进行了实际使用,但这些通常在高温下形成,因此无法说数据是充足的。 因此,在本研究中,研究了CRN膜的薄膜形成时的衬底温度在350℃下固定,并研究了其他膜形成条件对机械性能和CRN膜的微观结构的影响。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号