X 線異常散乱法による NaAlH_4 - 2 mol TiCl_3 の Ti 位置の解析

摘要

軽元素系錯体水素化物の一種であるNaAlH_4は，固相における水素の吸蔵放出反応速度が数mol%のTi触媒を添加することにより改善することが知られている[1]．この反応には物質内の構造の乱れやイオンの拡散が関係していると考えられ，空孔の生成?拡散が関与しているというモデル[2]が提唱されており，研究が進められている．とくに，添加したTiの位置，化学状態は重要であり，複数の報告[3]があるものの結論はでていない．我々の行った中性子回折測定による構造解析から，添加したTiがNaAlH_4のAlサイトに置換していることが示唆されている．本研究では，TiがAlサイトに置換しているか否かを決定することを目的として，X線異常散乱 (Anomalous X-ray Scattering，AXS) 測定[4]を行った．