plasma; chemical vapor deposition; films; vibrationa; properties; optical properties; amorphous carbon;
机译:低频(60 Hz)等离子体增强化学气相沉积(PECVD)施加的功率对氢化非晶碳(a-C:H)膜沉积的影响
机译:射频等离子体增强化学气相沉积法制备掺Si的a-C:H薄膜的电学和光学性质
机译:Er / sup 3 +/-掺杂的Al / sub 2 / O / sub 3 /薄膜,通过等离子增强化学气相沉积(PECVD)表现出55 nm的光带宽
机译:聚合物样A-C:H薄膜的双模等离子体增强化学气相沉积(PECVD):振动; 和光学性质
机译:通过高压化学气相沉积和ZGP单晶的高压化学气相沉积和振动研究生长的氮化铟外膜的光学和结构性
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:使用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)技术沉积的氢化非晶碳(a-C:H)薄膜的结构和光学性质