Nanopillars and arrays of nanoholes fabricated by extreme ultraviolet interferometric laser lithography

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• 来源
  《LEOS Annual Meeting Conference Proceedings, 2007 IEEE》|2007年|P.486-487|共2页
• 会议地点 Lake Buena VistaFL
• 作者

  Wachulak; P.W.; Capeluto; M.G.; Patel; D.; Marconi; M.C.; Menoni; C.S.; Rocca; J.J.;

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• 作者单位

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• 正文语种
• 中图分类
• 关键词

  laser materials processing; nanolithography; nanostructured materials; ultraviolet lithography; exposure dose; multiple exposure interferometric lithography; nanoholes; nanopillars; ultraviolet interferometric laser lithography; wavelength 46.9 nm;

  机译：激光材料加工；纳米光刻；纳米结构材料；紫外线光刻暴露剂量多次曝光干涉光刻；纳米孔纳米柱紫外线干涉激光光刻；波长46.9 nm;