Department of Electrical and Computer Engineering, University of California Santa Barbara, Santa Barbara, California 93106, U.S.A.;
机译:BCL_3 / SF_6混合物中GaN在AlGaN上的选择性干刻蚀
机译:Cl_2 / BCl_3辅助的GaN和AlGaN / GaN的反应离子刻蚀
机译:用BCl_3 / SF_6等离子体对GaN进行反应性离子刻蚀
机译:在BCL_3 / SF_6混合物中选择性干蚀刻AlGaN
机译:干湿GaN蚀刻优化形成高纵横比纳米线
机译:用多指架构调制对高功率应用的自终止蚀刻技术常关P-GAN / ALGAN / GAN HEMT的研究
机译:用于在GaN(0001)衬底上制造量子纳米结构的AlGaN / GaN的ECR干蚀刻和选择性MBE生长的研究