Department of Electrical and Computer Engineering, University of Delaware 140 Evans Hall, Newark, DE 19716, USA;
机译:掺硼硅装置的TERAHERTZ辐射的温度依赖性。
机译:单轴压缩应力对掺磷硅器件太赫兹发射的影响
机译:电泵浦镓掺杂硅器件的太赫兹发射
机译:硅装置掺杂硼的太赫兹排放的温度依赖性
机译:使用光导天线太赫兹发生器测量掺硼硅的太赫兹折射率。
机译:重掺杂硼的硅层用于纳米级热电器件的制造
机译:硅中硼和磷掺杂杂质对太赫兹光学跃迁的温度依赖性
机译:硼掺杂硅中空穴迁移率,有效质量和电阻率的温度和掺杂浓度依赖性的理论和实验研究