LCMP, S.N.Bose National Center for Basic Sciences, Salt Lake, Kolkata, India;
rnFaculty of Technology and Engineering, M.S.University of Baroda, Baroda;
rnLCMP, S.N.Bose National Center for Basic Sciences, Salt Lake, Kolkata, India;
CoNiAl ferromagnetic shape memory alloys; thin films; D.C sputtering; magnetic properties;
机译:Cr添加对磁控溅射Ni-Mn-In铁磁形状记忆合金薄膜的结构,磁性和机械性能的影响
机译:磁控溅射Ni-Mn-Sn铁磁形状记忆合金薄膜的结构和磁性
机译:气相沉积Fe70Pd30铁磁形状记忆合金薄膜的应力诱导马氏体相变,孪晶迁移率和弹性
机译:用双源直流溅射制备Fe-Pd铁磁形状记忆合金薄膜的机械性能
机译:镍锰镓铁磁形状记忆薄膜的合成及功能性能。
机译:沉积和独立的单晶Fe7Pd3铁磁形状记忆合金薄膜中的纳米尺度磁结构耦合
机译:圆锥铁磁形状记忆合金薄膜的制造和磁性性能