Key Laboratory of Excited State Processes, Changchun Institute of Optics, Fine Mechanics and Physics, Chinese Academy of Sciences, No. 140 Renmin Street, Changchun, 130022, P.R.China;
机译:ZnO缓冲层对在柔性基板上生长的ZnO:Ga膜弯曲耐久性的影响:表面能,电学,光学和结构性质的研究
机译:ZnO缓冲层对柔性基材生长ZnO:GA薄膜特性的影响:表面能,电气,光学和结构性能研究
机译:ZnO缓冲层对在250℃低生长温度下在Al_2O_3(0001)衬底上生长的Ga掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:用ZnO缓冲层在硅衬底上生长的ZnTe膜的发光特性
机译:在硅和石墨烯基底上通过原子层沉积生长的无机膜的纳米图案化和表征。
机译:直流磁控溅射性能的改进含保留Ar原子的Al掺杂ZnO多晶膜10nm厚的缓冲层
机译:通过RF磁控溅射在Si基板上生长的ZnO缓冲层气体气氛的影响