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田军; 刘玉岭; 王立发; 唐文栋;
中国仪器仪表学会;
中国物理学会;
中国光学学会;
硬盘基板; CMP; 碱性浆料; 硬盘;
机译:非球形胶体二氧化硅浆料对Al-NiP硬盘基板CMP应用的影响
机译:XPS研究硬盘驱动器基板NiP涂层CMP机理
机译:浆料对碱性浆料中铜CMP性能的影响
机译:用碱性纳米SiO2浆料对计算机硬盘NiP基板进行CMP超精密加工的研究
机译:CMP过程中的磨料颗粒轨迹和材料去除不均匀性以及CMP浆料的过滤特性-模拟和实验研究。
机译:使用光密度法和折射率测量表征CMP浆料
机译:浆料在CMP工艺材料去除机理中的基本作用研究
机译:一些有机磷萃取剂(HHDECmp(己基,己基-N,N-二乙基氨基甲酰基甲基次膦酸盐); DHDECmpO(二己基-N,N-二乙基氨基甲酰基甲基膦氧化物))萃取金属溶剂的动力学和机理
机译:化学机械抛光用于铝层的CMP浆料,使用CMP浆料的CMP方法以及使用CMP方法的铝布线的形成方法
机译:CMP浆料,其制备方法和使用该浆料抛光基板的方法
机译:用于CMP的浆料和使用该浆料的抛光基板的方法
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