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Tang Cen; 汤岑; Sheng Kuang; 盛况; Xie Gang; 谢刚;
教育部;
国务院学位委员办公室;
高电子迁移率晶体管; 硅衬底; 泄漏电流; 击穿机理; 仿真分析;
机译:后栅退火在非钝化AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管中的栅电流泄漏和击穿机理
机译:AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管的关态击穿和泄漏电流传输分析
机译:独立n型GaN衬底上的AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管结构的击穿机理
机译:在Si衬底上生长掺碳GaN缓冲层的AlGaN / GaN基HFET的击穿机理
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:使用AlGaN / GaN / AlGaN量子阱电子阻挡层的AlGaN / GaN HEMT中的高击穿电压
机译:用于微波功率应用的宽带转移衬底alGaN-GaN异质结双极晶体管
机译:降低AlGaN / GaN HEMT的栅极漏电流的AlGaN / GaN HEMT方法
机译:GaN缓冲器中的掺杂和陷阱型材工程最大化AlGaN / GaN HEMT EPI堆栈击穿电压
机译:GaN缓冲中的掺杂和陷阱轮廓工程,可最大程度地提高AlGaN / GaN HEMT EPI击穿电压
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