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魏琪; QI Wei; 于金星; YU Jing-xing; 王力元; WANG Li-yuan;
中国感光学会;
化学增幅型i线正性光致抗蚀剂; 性能评价; 结构表征; 成像效果;
机译:复杂分子刷体系结构的先进光致抗蚀剂技术:基于双嵌段刷三元共聚物的正性光致抗蚀剂材料
机译:一种新颖的改进型双频Wilkinson功率分配器,具有开路短截线和可选的隔离
机译:一种新颖的用洗涤剂/聚合物系统进行两步萃取的方法,用于融合蛋白内切葡聚糖酶I-疏水蛋白I的初步回收
机译:用于化学增幅光刻胶的非离子型光致产酸剂:结构对光刻胶性能的影响
机译:一种在GPU加速群集上评估紧凑有限差分和类似三对角线方案的新颖方法。
机译:后纵韧带(OPLL)的后凸畸形线(K线)骨化的一种新颖的前减压技术:椎体滑动截骨术
机译:正性光树脂在紫外线下的光化学分解研究正性光致抗蚀剂在紫外线下的光分解
机译:用于消耗品分析的电力系统数据库体积I-电气设备清单,活动块和时间线
机译:用于化学增幅型光致抗蚀剂的聚合物,一种化学增幅型光致抗蚀剂组合物及其制备方法
机译:用于生产正性光致抗蚀剂的聚合物和化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物
机译:制造具有光致抗蚀剂的化学增幅型光致抗蚀剂的共聚物和具有正光致抗蚀剂的化学增幅型正光致抗蚀剂组合物
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