ECR-PECVD低温沉积多晶硅薄膜及其结构研究

摘要

采用电子回旋共振等离子增强化学气相沉积(ECR-PECVD)方法，以SiH4和H2为气源，在普通玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜。利用XRD、Raman光谱和TEM研究了衬底温度、氢气流量和微波功率对多晶硅薄膜的影响。通过分析薄膜的结构和形貌，得出适宜低温沉积多晶硅薄膜的工艺参数。