紫外可见光反射光谱法测试薄膜厚度装置及应用

摘要

运用薄膜光学干涉原理、光纤技术和干涉光谱分析技术，用光纤反射式光谱仪和紫外可见光光源(UV-VIS)建立了一套薄膜厚度测试装置。通过对薄膜样品反射光谱的测试，计算出薄膜的厚度。对薄膜无破坏作用，薄膜厚度测试范围为10nm～2μm。用此方法对Si-SiO2膜厚度进行了测试，与成熟的椭圆偏振仪测试结果相比，测试误差＜5％。该方法测试简单、快速，精度高，不需要制定仪器曲线，可对薄膜任意位置的厚度在线测试。采用这种方法对不同厚度的铀表面U-UO2厚度进行了测试，测试数据与椭圆偏振仪进行了对比，测试误差＜5％。