基于二氧化碳溶液体系清除硅片表面纳米级金属颗粒的微观模型研究

摘要

本文建立了硅片上纳米金属颗粒的静态力模型,分析了范德华力、库仑力、接触作用势、重力、浮力、表面张力、毛细管作用力等对金属颗粒的影响,计算了在不同条件下(温度、压力、颗粒大小、浸没高度和共溶剂或表面活性剂)金属铜颗粒与硅基底的甲衡分离距离和粘附作用力。计算结果表明,增加体系的压力,可以显著增人平衡分离距离,减小粘附力,有利于颗粒的清除。